光刻机最新消息：光刻机巨头计划与韩国两大芯片巨头合作
国际光刻机巨头又传来大消息。
阿斯麦与SK海力士拟合作
开发EUV光刻机氢气回收技术
据界面新闻，韩国产业通商资源部12月13日表示，总部位于荷兰的阿斯麦公司（ASML）计划扩大与韩国芯片制造商的业务合作。除ASML计划与三星电子共同投资1万亿韩元（约合54.4亿元人民币）在韩国建芯片研究中心外，ASML还与韩国第二大芯片制造商SK海力士签署谅解备忘录，以开发回收极紫外（EUV）光刻机中使用的氢气的技术，以降低极紫外线光刻机能耗。
数据显示，2022年全球光刻机市场超过200亿美元，ASML、Canon、Nikon三大巨头垄断了大部分市场份额，光刻机营收分别达到了161亿美元、20亿美元、15亿美元，市场份额分别为82%、10%、8%。在超高端的EUV光刻机上，基本上ASML处于垄断地位。从2022年收入来源看，中国大陆占ASML销售额的14%。
安信证券研报认为，光刻机是芯片制造核心设备，对制程升级发挥关键作用，国产光刻机在技术节点上与国际厂商相比仍有差距。光刻机是“工业王冠上的宝石”，是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备，国产替代势在必行。
数据宝统计，A股中，涉及光刻机、光刻胶的概念股共有21只。12月13日早盘，A股光刻机概念指数小幅下跌，芯碁微装、苏大维格、扬帆新材等5股小幅上涨，涨幅均在1%以内。
业绩上来看，12只光刻机概念股三季报实现盈利增长，上海新阳、苏大维格、容大感光增幅居前，均超过100%。
上海新阳在投资者问答互动平台上表示，公司ArF光刻胶尚在客户认证中，I线及KrF光刻胶已有销售。
苏大维格在投资者问答互动平台上表示，公司激光直写光刻系列设备，可为国内外高等院所和企业提供自主可控的直写光刻技术和光电子材料与器件技术方案，包括微纳光学材料、MEMS产品、射频器件、滤波器件等产品的研发与制造，也可为今后裸眼3D显示、光子晶体、半导体功率芯片等研发和制备方面，提供前沿性和实用性纳米光刻工具。
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